净化车间光催化技术突破

中科院研发可见光催化涂层 破解净化车间臭氧污染难题

技术背景传统紫外光催化技术虽能分解有机污染物，但产生的臭氧二次污染长期困扰半导体行业。中科院合肥物质科学研究院历时7年攻关，成功开发出新型氮掺杂二氧化钛可见光催化剂。

创新亮点

1. 光谱响应突破：将光响应阈值从387nm拓展至520nm，实现普通LED照明下的持续催化

2. 臭氧零产生：通过晶面调控技术，反应路径选择性达99.7%

3. 自清洁循环：与华星光电合作开发的"蜂巢式"涂层结构，使表面接触角动态变化5°-150°

应用实效在长江存储的晶圆封装车间实测显示：

• VOCs去除率：92.4%（甲苯/二甲苯混合体系）

• 能耗成本：较传统UV系统降低68%

• 维护周期：从2周延长至6个月

行业影响该技术已形成17项核心专利，打破日本企业在光催化领域的长期垄断。预计到2026年，可带动相关装备产业50亿元产值。